沿革

会社の歩み

19356 創立
当社は、熱交換機(ヒーター)、送排風機(ファン)の専門メーカとして、
現在の大阪市平野区に合資会社を創立(資本金5,000円)
19393 応用機器の販売
「熱と風」の理論と研究から応用技術を生かした熱風乾燥機、輸送機器、科学機器等の設計、製造、販売を行う
19474 染色仕上関係機械に重点を置いた各種乾燥機を開発する
19573 資本金300万円となり株式会社組織とする
196110 資本金3,600万円となる
19624 資本金1億円となり大阪証券取引市場第二部上場
19644 輸出貢献企業に成長 輸出貢献企業として通産省より表彰される
19706 創立35周年、社旗完成
197112 資本金5億6千万円となる
19736 「ヒラノテクニカム」を設置
19793 本社工場増築
19817 省エネを探究し新機種(シンプレックステンター)完成。下記表彰等受ける
優秀省エネルギー機器表彰受賞(財団法人日本機械工業連合会)
省エネルギー税制優遇措置適用機種(通産省告示第201号)
19856 創立50周年を迎え社史発刊
19884 資本金10億5千3百万円となる
19891 株式会社ヒラノテクシードに社名変更
19902 スイスフラン建転換社債を発行
19903 新鋭「ヒラノテクニカム(商品開発センター)」竣工
19913 資本金18億4千7百万円となる
19984 ISO9001 認証取得
199811 ドイツ・スティアーグ社より液晶レジスト塗布用CAPコータの技術を導入
19992 「CAP Coater」の大型試作機をヒラノテクニカム内に設置
20001 「CAP Coater」をフォト用レジスト塗布装置として製品化
20006 連続シートへの塗布を可能とした「連続式 Capillary Coater」を開発
20013 研究開発用小型「Capillary Coater」を開発
200111 中厚セラミックシート成形テスト機「M-600SF」を「ヒラノテクニカム」に設置
200112 第5世代LCD用「新型 Capillary Coater」を開発
20023 有機EL発光層成膜プロセスを開発
200212 耐環境膜の薄膜コーティング技術を開発
20085 レーザー加工機を更新
20101 リチウムイオン電池用テストコーター「R800-DB」、蓄熱式脱臭装置をテクニカムに設置
201010 平面研削盤を増設
20128 本社工場の敷地を拡大
20131 新塗装工場竣工
20137 大阪証券取引所市場第二部が東京証券取引所市場第二部に統合
20166 監査等委員会設置会社に移行
20176 ISO14001 認証取得